光学镀膜

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光学薄膜作为精密光学系统的核心,对重大科学问题的解决、国防装备的进步和高新技术产业的发展有重大影响。实验室在光学镀膜方面的能力处于业界领先水平,建立了薄膜优化设计、精确制备和性能表征的研制平台,研究薄膜材料与功能的映射关系,实现薄膜结构、光学性能、环境适应性的有效调控,开展高品质光学薄膜的研制。
光学镀膜
产品简介
针对红外波段多功能光学薄膜镀制需求,配备电子束蒸发、热阻蒸发和离子辅助沉积系统,结合多探头石英晶振物理厚度监控和宽波长范围的光学监控系统,实现沉积稳定可靠控制,适用于制备近红外至远红外波段各类介质膜和金属薄膜。
能力 / 指标

1.可镀膜口径500mm以内的元件;

2.薄膜材料:氧化物、金属氟化物、硫化物、硒化物、半导体材料和金属等;

3.能镀制1-15微米波长范围上的增透膜、高反膜、分光膜和滤光膜等;

4.典型应用:特种气体探测用红外滤光片;红外成像和测温用窗口增透膜;红外搜索跟踪多光谱成像分光膜等。


产品简介
针对紫外-可见-近红外波段低损耗光学薄膜镀制需求,配备双电子束蒸发和离子辅助沉积系统,结合多探头石英晶振物理厚度监控和宽波长范围的光学监控系统,实现沉积稳定可靠控制,适用于制备紫外-可见-近红外波段各类介质膜和金属薄膜。
能力 / 指标

1.可镀膜口径410mm以内的元件;

2.薄膜材料:氧化物、氟化物和金属等;

3.能镀制200-2000nm波长范围上的增透膜、高反膜、分光膜和滤光膜等;

4.典型应用:紫外光刻和半导体量测用镜头组;可见-近红外精密光学成像元件;低吸收高损伤阈值激光薄膜元件;高保偏性能的激光通信系统应用的薄膜元件等。


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